بررسی اثر مقدار نیتروژن بر خصوصیات ساختاری ، فازی و مورفولوژی سطح لایه های نازک نیترید تنگستن
نویسندگان
چکیده مقاله:
لایه های نیترید تنگستن با ساختاری بلوری به روش تبخیر شیمیایی و در غلظتهای مختلفی از گاز نیتروژن در ترکیب گازی آرگون و نیتروژن تولید شد. نتایج بدست آمده نشان می دهد که غلظت نیتروژن در گاز ترکیبی تاثیر بسزایی روی ساختار، فازهای تشکیل شده، مورفولوژی سطح لایه ها و حتی اندازه دانه ها دارد. پراش اشعه ایکس، ساختار بلوری هگزاگونال WN را در نمونه های با غلظت کم نیتروژن )%10N2=، %30N2= و %50N2= (نشان می دهد و لایه ها دارای مورفولوژی غیریکنواخت با سطوحی زبر هستند. در غلظتهای بالاتر نیتروژن(%80N2= و%100N2= ) تغییر فاز رخ می دهد و دو ساختار بلوری مربعی W2N و WNهگزاگونال مشاهده می شود.بنظر میرسد که غلظت نیتروژن در جهت رشد ترجیحی فازهای بلوری نیز تاثیر بسزایی دارد. لایه ها دارای سطوحی صاف و زبری کم می باشند. تصاویر میکروسکوپ پراش الکترونی ساختار ستونی برای غلظتهای کم نیتروژن و ساختار چگال و غیر ستونی را برای غلظتهای بالای نیتروژن نشان می دهد.
منابع مشابه
بررسی اثر میان لایه تیتانیومی بر خواص مکانیکی و ساختاری اتصال نفوذی فولاد- تنگستن
در این بررسی اتصال نفوذی فولاد- تنگستن با استفاده از لایه میانی تیتانیومی خالص انجام شد. نمونهها در فیکسچر مناسب تحت فشار MPa 5 درون کوره با اتمسفر آرگون در دماها و زمانهای مختلف قرار گرفتند. تصاویر میکروسکوپ نوری و میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) نمونهها نشاندهنده تشکیل ناحیه نفوذی قابل تشخیص در فصل مشترک تنگستن- تیتانیوم و نفوذ بسیار کم تیتانیوم در فولاد است. همچنین با افزایش زمان و دمای ...
متن کاملاثر مدت زمان اکسیداسیون حرارتی لایههای نازک Zn فلزی بر روی مورفولوژی و خصوصیات ساختاری نانوسیمهای اکسید روی
در این پژوهش نانوسیمهای اکسید روی با خواص ساختاری بالا از طریق اکسیداسیون حرارتی لایههای نازک Zn فلزی رشد داده شدند. فیلمهای Zn با ضخامت 250 نانومتر با استفاده از تکنیک تبخیر در خلاء بر روی زیرلایه شیشه لایه نشانی گردیدند. جهت رشد نانوسیمهای اکسید روی، فیلمهای Zn لایهنشانی شده به مدت 30 دقیقه، 1ساعت و 3 ساعت در دمای ˚C600 در محیط هوا با استفاده از یک کوره افقی اکسید شدند. مورفولوژی سطح نم...
متن کاملبررسی اثر استفاده از رادیکال های گازی سیستم گازی آمونیاک و تری کلروسیلان بر رشد و خصوصیات لایه نازک نیترید سیلیکون آمورف لایه نشانی شده به روش لایه نشانی شیمیایی از فاز بخار در فشار پایین
In this paper, preparation and characterization of a-SiNx thin films deposited by LPCVD method from free radicals of TCS and NH3 gaseous system were investigated. These radicals are made by passing each of the precursor gases separately over Pt-Ir/Al2O3 catalyst at the temperature of 600 ᐤC. Kinetics of this process was investigated at different total pressures, NH3/TCS flow rate ratios and te...
متن کاملبررسی اثر سطوح مختلف نیتروژن و پتاسیم بر خصوصیات مورفولوژی وشیمیایی گیاه استویا (Stevia rebaudiana Bertoni)
به منظور بررسی اثرسطوح مختلف نیتروژن و پتاسیم بر خصوصیات مورفولوژیکی و شیمیایی گیاه دارویی استویا تحت شرایط گلخانه، آزمایشی در سال زراعی 1389 در پژوهشکده بیوتکنولوژی شمال کشور به صورت آزمایش فاکتوریل در قالب کامل تصادفی در چهار تکرار انجام شد که در آن نیتروژن در چهار سطح (صفر،20،40،60) کیلوگرم در هکتار و پتاسیم در چهار سطح (40،30،20 و صفر) کیلوگرم در هکتار در نظر گرفته شد. صفات مورد انداز...
متن کامللایه نشانی و تعیین خواص نوری نیترید سیلیسیم در محیط های آرگن و نیتروژن
�لایه های نازک نیترید سیلیکون برروی زیرلایه بس کریستال سیلیکون و شیشه نازک بااستفاده از روش کندوپاش RF لایه نشانی شده اند. لایه نشانی یک بار در محیط گاز آرگن و بار دیگر در محیط گاز نیتروژن انجام شده� است. با تغییر توان لایه نشانی نسبت نیتروژن و سیلیکون موجود در لایه تغییرمی کند و لایه هایی با خواص نوری متفاوت به دست می آید. تأثیرات ناشی از تغییرات توان RF برروی خواص نوری و ترکیبات موجود در لایه...
متن کاملمنابع من
با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید
ذخیره در منابع من قبلا به منابع من ذحیره شده{@ msg_add @}
عنوان ژورنال
دوره 8 شماره 1
صفحات 47- 59
تاریخ انتشار 2019-02-16
با دنبال کردن یک ژورنال هنگامی که شماره جدید این ژورنال منتشر می شود به شما از طریق ایمیل اطلاع داده می شود.
کلمات کلیدی
میزبانی شده توسط پلتفرم ابری doprax.com
copyright © 2015-2023